淋洗液發生器部件及配件
淋洗液發生器部件及配件
陰離子分析用淋洗液
碳酸鈉/碳酸氫鈉:手動配製
063965 |
PROD,RGNT,EL,AS22 |
064161 |
PROD,RGNT,EL,AS23 |
氫氧化鉀:在線產生
需要淋洗液罐和捕獲柱
陽離子分析用淋洗液
甲磺酸:手動或在線產生
在線產生需要淋洗液罐和捕獲柱
糖和氨基酸分析用淋洗液
氫氧化鈉和醋酸鈉
asiagame官网登录入口的發生灌可以電解產生高純度氫氧化物、碳酸鹽和甲磺酸淋洗液,適用於等度和梯度運行。在 Thermo Scientific Dionex Reagent-Free 離子色譜係統(RFIC)中,隻需加水即可取得出色結果。
淋洗液發生灌
無需手動製備淋洗液。淋洗液發生灌可以電解產生高純度氫氧化物、碳酸鹽和甲磺酸淋洗液,適用於 RFIC 係統上的等度和梯度運行。您隻需加水即可。
自動生產高純度洗脫液
與 Thermo Scientific Dionex ICS-5000+ HPIC、ICS-6000 和 ICS-2100 係統配合使用
用於等度或梯度分離
Dionex EGC 400 純化柱僅用於在雙 EGC 模式下供 Dionex ICS-6000 HPIC 係統執行複雜碳水化合物分析
獲得出色的批次間可重現性
免除了對酸和堿的處理減少泵維護並延長使用壽命;泵隻會遇到去離子水
使用通常用於毛細管柱標準孔的各種流速
與可承受高達 5000 psi 壓力(34.5 MPa,僅限 Dionex EGC 毛細管型和 EGC 500)的高壓離子色譜係統配合使用
產品特點
Dionex EGC III 和 EGC 500 純化柱在 1.0 mL/min 下支持的濃度範圍為 0.1–100 mM (0.1–80 mM EGC III LiOH)
Dionex KOH、NaOH 和 LiOH 純化柱支持 高濃度達 25% 的甲醇
Dionex K2CO3 和 MSA 純化柱與溶劑不兼容
Dionex EGC(毛細管)純化柱在 0.010 mL/min 下與 1-30 μL/min (0.001-0.030 mL/min) 的流速範圍內支持的濃度範圍為 0.1–200 mM
Dionex EGC-KOH(毛細管)純化柱支持 高濃度為 25% 的甲醇
Dionex EGC-MSA(毛細管)純化柱與溶劑不兼容
適用於複雜碳水化合物的雙 EGC 模式
通過在雙洗脫液發生器純化柱(雙 EGC)模式下運行 Dionex ICS-6000 HPIC 係統來自動產生洗脫液梯度,以分析複雜碳水化合物。這種新選擇將甲磺酸 (MSA) EGC 400 純化柱和氫氧化鉀 (KOH) EGC 400 純化柱互相串聯使用,可產生重現性和準確性極高的 KOH/KMSA 洗脫液梯度來分析複雜碳水化合物(如低聚糖)。
描述 | 適用於 | 部件號 |
Dionex EGC III KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐 | 傳統 RFIC-EG 係統(高達 3,000 psi) | 074532 |
Dionex EGC 500 K2CO3 碳酸鉀淋洗液發生罐 | Dionex ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 係統 | 088453 |
Dionex EGC III NaOH 氫氧化鈉淋洗液發生罐 | 傳統 RFIC-EG 係統(高達 3,000 psi) | 074533 |
Dionex EGC III LiOH 氫氧化鋰淋洗液發生罐 | 傳統 RFIC-EG 係統( 高耐壓達 3,000 psi) | 074534 |
Dionex EGC III MSA 淋洗液發生罐 | 傳統 RFIC-EG 係統耐壓高達 3,000 psi | 074535 |
Dionex EGC-KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐,毛細管型 | ICS-4000 毛細管 HPIC 係統和 Dionex ICS-5000+ 毛細管係統 | 072076 |
Dionex EGC-MSA 甲磺酸淋洗液發生罐,毛細管型 | ICS-4000 毛細管 HPIC 係統和 Dionex ICS-5000+ 毛細管係統 | 072077 |
Dionex EGC 500 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐 | Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 係統 | 075778 |
Dionex EGC 500 MSA 甲磺酸淋洗液發生罐 | Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 係統 | 075779 |
Dionex EGC 400 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐 | Dionex ICS-6000 HPIC 標準孔/微孔或混合型係統可采用雙 EGC 模式 | 302766 |
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